單項(xiàng)選擇題B-A001為（）級(jí)壓縮。
A.5
B.4
C.6
D.2
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1.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置用于調(diào)整催化劑活性的助劑為（）
A.LiOH
B.NaOH
C.KOH
D.NaCO3
2.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置目前共有（）套氮封系統(tǒng)。
A.5
B.9
C.4
D.6
3.單項(xiàng)選擇題R-A001-4降溫介質(zhì)為（）
A.CWS
B.PW
C.BFW
D.IW
4.單項(xiàng)選擇題R-A001-4加熱介質(zhì)為（）
A.5S
B.1.9S
C.12S
D.30S
5.單項(xiàng)選擇題D-A021位于裝置（）樓。
A.4
B.5
C.3
D.2
最新試題
四通閥設(shè)置開(kāi)度有哪些？其分別對(duì)應(yīng)的反沖洗方向有哪些？
題型：?jiǎn)柎痤}
簡(jiǎn)述C-A002自身相關(guān)聯(lián)的連鎖。
題型：?jiǎn)柎痤}
HMDA裝置廢氣的來(lái)源主要來(lái)自那些方面？
題型：?jiǎn)柎痤}
簡(jiǎn)述過(guò)濾機(jī)反沖洗時(shí)，反應(yīng)釜頂部周?chē)鏖y門(mén)的狀態(tài)。
題型：?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)簡(jiǎn)述C-A001/2/3/5在工藝中的作用？
題型：?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)簡(jiǎn)述反應(yīng)前的氮?dú)庵脫Q現(xiàn)場(chǎng)的操作？
題型：?jiǎn)柎痤}
簡(jiǎn)述C-A001/2/3/5在工藝中的作用？
題型：?jiǎn)柎痤}
為保護(hù)真空機(jī)組及精餾系統(tǒng)的安全穩(wěn)定，設(shè)置真空機(jī)組的連鎖有哪些？
題型：?jiǎn)柎痤}
寫(xiě)出與4號(hào)反應(yīng)釜相關(guān)聯(lián)的聯(lián)鎖或程序。
題型：?jiǎn)柎痤}
簡(jiǎn)述重組分提純結(jié)束后的操作。
題型：?jiǎn)柎痤}