A.高壓蒸鎦
B.真空蒸鎦
C.共沸蒸鎦
D.萃取蒸鎦
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A.微分蒸餾
B.平衡蒸鎦
C.精鎦
D.共沸蒸餾
A.沸點(diǎn)
B.溶解度
C.凝固點(diǎn)
D.黏度
A.溶解度增大
B.溫度升高
C.溶解度減小
D.原因不明
A.逆流
B.并流
C.逆流、并流同時(shí)使用
D.不確定
A.某物質(zhì)在單位質(zhì)量溶液中的最大溶解量
B.某物質(zhì)在單位質(zhì)量溶液中能進(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)
C.某物質(zhì)在單位質(zhì)量溶液中最高溫度
D.某物質(zhì)在單位質(zhì)量溶液中最高壓力
最新試題
簡(jiǎn)述C-A003產(chǎn)品精餾塔的主要控制點(diǎn)(流量,壓力,溫度)及動(dòng)設(shè)備代號(hào)名稱。
請(qǐng)說(shuō)明B-A004進(jìn)行氫氣循環(huán)時(shí),形成液封的判斷標(biāo)準(zhǔn)。如果沒(méi)有形成液封,可能的原因。
試比較F-A001-1與F-A001-4的區(qū)別。
C-A003在做粗產(chǎn)品精餾的過(guò)程中,儀表室發(fā)現(xiàn)TI-A010溫度高報(bào)警,SV-A010,AV-A111自動(dòng)閥門關(guān)閉,其他設(shè)備運(yùn)行正常,解釋導(dǎo)致此現(xiàn)象的原因及處理方法?
簡(jiǎn)述過(guò)濾機(jī)反沖洗時(shí),反應(yīng)釜頂部周圍各閥門的狀態(tài)。
HMDA裝置的后處理包括了哪些工藝操作?
簡(jiǎn)要敘述工作申請(qǐng)單、能量隔離證明和工作許可證的辦理順序和批準(zhǔn)順序。
請(qǐng)問(wèn)LTT程序的最重要的兩個(gè)部分是什么?工作申請(qǐng)包括哪些?
HMDA裝置具有雙程控制的控制點(diǎn)有哪些?
四通閥設(shè)置開(kāi)度有哪些?其分別對(duì)應(yīng)的反沖洗方向有哪些?