簡(jiǎn)述C-A003產(chǎn)品精餾塔的主要控制點(diǎn)（流量，壓力，溫度）及動(dòng)設(shè)備代號(hào)名稱。

簡(jiǎn)述C-A001/2/3/5在工藝中的作用？

請(qǐng)簡(jiǎn)述反應(yīng)釜加堿操作？

HMDA裝置的后處理包括了哪些工藝操作？

反應(yīng)結(jié)束，現(xiàn)場(chǎng)打開(kāi)放開(kāi)手閥。儀表室進(jìn)行反應(yīng)釜高壓泄壓程序操作時(shí)，發(fā)現(xiàn)反應(yīng)釜壓力急速下降，瞬間與D-A016均壓?，F(xiàn)場(chǎng)聽(tīng)到巨響。請(qǐng)分析造成這一現(xiàn)象的原因是什么？

請(qǐng)用分子結(jié)構(gòu)式寫(xiě)出MDA加氫反應(yīng)生產(chǎn)HMDA的化學(xué)方程式。

四通閥設(shè)置開(kāi)度有哪些？其分別對(duì)應(yīng)的反沖洗方向有哪些？

簡(jiǎn)要敘述工作申請(qǐng)單、能量隔離證明和工作許可證的辦理順序和批準(zhǔn)順序。

請(qǐng)寫(xiě)出氮封系統(tǒng)主要哪些部分組成？

為保護(hù)真空機(jī)組及精餾系統(tǒng)的安全穩(wěn)定，設(shè)置真空機(jī)組的連鎖有哪些？