單項(xiàng)選擇題一定曝光量所需的曝光時(shí)間T與射源至底片的距離D的關(guān)系應(yīng)為()。
A. t2/t1=D12/D22
B. t1/t2=D12/D22
C. t2/t1=D1/D2
D. t1/t2=D1/D2
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1.單項(xiàng)選擇題使用鉛箔增感,透照某工件采用15mA。2min曝光得到滿意結(jié)果,若其他條件不變,改為5mA,則曝光時(shí)間應(yīng)為()。
A. 4 min
B. 6 min
C. 10 min
D. 15min
2.單項(xiàng)選擇題X射線照相檢測(cè)工藝參數(shù)主要是()。
A.焦距
B.曝光時(shí)間
C.管電壓
D.以上都是
3.單項(xiàng)選擇題射線透照厚度1.25in的鑄件,射線底片上顯示出ASTM20#像質(zhì)計(jì)的2T孔,則該底片的當(dāng)量靈敏度為()。
A. 0.8%
B. 1.6%
C. 2.4%
D. 3.2%
4.單項(xiàng)選擇題常用的像質(zhì)計(jì)是()。
A. 槽式像質(zhì)計(jì)
B. 線形像質(zhì)計(jì)
C. 孔形像質(zhì)計(jì)
D. 以上都是
5.單項(xiàng)選擇題射線探傷時(shí),使用像質(zhì)計(jì)的主要目的是()。
A.測(cè)量缺陷的大小
B.測(cè)量缺陷的位置
C.測(cè)量缺陷的幾何不清楚度
D.確定底片的彩像質(zhì)量
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