A．H=I/2πr；
B．H=2πr/I；
C．H=2π/Ir；
D．H=2r/πI
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A．高斯；
B．亨利；
C．法拉；
D．安培
A．電流：符號-I，單位-安培；
B．磁導(dǎo)率：符號-μ，單位-亨利/米；
C．磁通密度：符號-B，單位-高斯，國際單位制單位-特斯拉；
D．磁場強(qiáng)度：符號-H，單位-奧斯特，國際單位制單位-安/米；
E．以上都對
A．電場強(qiáng)度；
B．磁感應(yīng)強(qiáng)度；
C．磁場強(qiáng)度；
D．磁通量
A．電場強(qiáng)度；
B．磁感應(yīng)強(qiáng)度；
C．磁場強(qiáng)度；
D．磁通量
A、鐵磁性材料有磁滯現(xiàn)象
B、隨著含碳量增高，矯頑力增大
C、鐵磁性材料的磁導(dǎo)率μ遠(yuǎn)大于1，它是與外磁場變化無關(guān)的常數(shù)
D、鐵磁性材料比順磁性材料較難達(dá)到飽和狀態(tài)
E、A和B都對
最新試題
磁懸液應(yīng)采用軟管沖淋或浸漬法施加于工件表面。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：大型工件可使用交流電磁軛進(jìn)行局部退磁或采用纏繞電纜線圈分段退磁。
工件的退磁效果一般可用剩磁檢查儀或磁場強(qiáng)度計測定。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁粉檢測時一般應(yīng)選用A1-60/100型標(biāo)準(zhǔn)試片。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。
采用剩磁法時，磁懸液應(yīng)在通電結(jié)束后再施加，一般通電時間為2～3s。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：剩磁應(yīng)不大于0.3mT（240A/m）。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：采用軸向通電法和觸頭法磁化時，為了防止電弧燒傷工件表面，應(yīng)將工件和電極接觸部分清除干凈或在電極上安裝非導(dǎo)電物質(zhì)。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的水?dāng)嘣囼灒饕怯脕頇z驗水磁懸液對被檢表面的潤濕性能，只有出現(xiàn)裸露的“水?dāng)唷北砻?，才可以開始磁粉檢測。
熒光磁粉檢測時，磁痕的評定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行，暗室或暗處可見光照度應(yīng)不小于20Lx。