A、小
B、大
C、一樣
D、不確定
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A、80-120
B、100-150
C、150-200
D、200-300
A、60-80
B、80-120
C、100-150
D、120-175
A、40-60
B、60-80
C、80-120
D、120-150
A、0.5--1倍
B、1--1.5倍
C、1.5--2倍
D、2-2.5倍
A、增加
B、減少
C、不變
D、不確定
最新試題
翻轉(zhuǎn)型曬版機(jī)又可稱為雙面曬版機(jī),它的裝版準(zhǔn)備和曝光可同時(shí)交替運(yùn)行,工作效率高,封閉遮光性能好。
印版應(yīng)具有良好的表面平整性,特別是在有效工作面內(nèi)更應(yīng)具有如此特征。
原版上網(wǎng)點(diǎn)質(zhì)量的黑度低,應(yīng)D<2.0時(shí)應(yīng)重新制版。
對(duì)路徑不能直接進(jìn)行漸變填充。
陽(yáng)圖曬版時(shí),若網(wǎng)點(diǎn)黑度較低,其網(wǎng)點(diǎn)部位也會(huì)透過(guò)一定量的光能而非完全不透光,使本該不曝光的部位也產(chǎn)生了部分曝光,導(dǎo)致印版的耐印力降低。
曬版時(shí),使用的感光物盡管是光敏物,在光照下能發(fā)生化學(xué)反應(yīng),有時(shí)卻能在亮室下而不必在暗室下操作。
網(wǎng)點(diǎn)虛暈度是指網(wǎng)點(diǎn)邊緣區(qū)域密度過(guò)渡的快慢程度。過(guò)渡快的網(wǎng)點(diǎn),其虛邊較寬,清晰度好,曬版時(shí)網(wǎng)點(diǎn)的還原再現(xiàn)性好。
陽(yáng)圖型PS版防止除臟曝光過(guò)度,可減少二次曝光時(shí)間。
在曬版過(guò)程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì),具有光不穩(wěn)定性,有的具有強(qiáng)腐蝕性或劇毒性,而有的則是易燃易爆品,所以必須全面了解這些藥品的基本性能,防止發(fā)生危險(xiǎn)和不必要的事故。
感光版的涂層越厚,它的反射能力越強(qiáng),那么曬版時(shí)所需的曝光量越小,光滲量和光散射量相應(yīng)減少,將會(huì)造成圖文殘缺或空白部位上臟等故障。