A、參考點(diǎn)的顯示是一個(gè)“+”形標(biāo)記
B、參考點(diǎn)隨著鼠標(biāo)而移動(dòng)并且與修補(bǔ)點(diǎn)的距離保持不變
C、參考點(diǎn)與修補(bǔ)點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡是平行的
D、在修補(bǔ)圖像過程中參考點(diǎn)的變換盡可能少一些
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A、海綿工具
B、修復(fù)畫筆工具
C、仿制圖章工具
D、圖案圖章工具
A、畫筆面板
B、色板面板
C、工具預(yù)設(shè)面板
D、樣式面板
A、任意長(zhǎng)寬比例的矩形選區(qū)
B、固定長(zhǎng)寬比的矩形選區(qū)
C、固定長(zhǎng)或?qū)挼木匦芜x區(qū)
D、固定大小的矩形選區(qū)
A、確認(rèn)當(dāng)前層為文字圖層，在工具箱中點(diǎn)按前景色選區(qū)框，并使用拾色器選擇顏色
B、將疊加圖層樣式應(yīng)用于文字圖層
C、在文字圖層中使用填充快捷鍵
D、點(diǎn)按文字選項(xiàng)欄的“顏色”選區(qū)框，并使用拾色器選擇顏色
A、在“畫筆”調(diào)板的“雙重畫筆”部分可以設(shè)置主要筆尖的選項(xiàng)。在“畫筆”調(diào)板的“畫筆筆尖形狀”部分可以設(shè)置次要筆尖的選項(xiàng)。
B、在“畫筆”調(diào)板的“畫筆筆尖形狀”部分可以設(shè)置主要筆尖的選項(xiàng)。在“畫筆”調(diào)板的“雙重畫筆”部分可以設(shè)置次要筆尖的選項(xiàng)。
C、在“畫筆”調(diào)板的“雙重畫筆”部分可以設(shè)置主要筆尖和次要筆尖的選項(xiàng)
D、在“畫筆”調(diào)板的“畫筆筆尖形狀”部分可以設(shè)置主要筆尖和次要筆尖的選項(xiàng)
最新試題
陽(yáng)圖曬版時(shí)，若網(wǎng)點(diǎn)黑度較低，其網(wǎng)點(diǎn)部位也會(huì)透過一定量的光能而非完全不透光，使本該不曝光的部位也產(chǎn)生了部分曝光，導(dǎo)致印版的耐印力降低。
網(wǎng)點(diǎn)虛暈度是指網(wǎng)點(diǎn)邊緣區(qū)域密度過渡的快慢程度。過渡快的網(wǎng)點(diǎn)，其虛邊較寬，清晰度好，曬版時(shí)網(wǎng)點(diǎn)的還原再現(xiàn)性好。
理論上講，感光版的反差系數(shù)較小，原版網(wǎng)點(diǎn)為實(shí)點(diǎn)時(shí)，只要曝光量大于感光版的臨界光能，就能得到良好的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)效果，曝光的寬容度就大。
網(wǎng)點(diǎn)是所有印刷工藝中構(gòu)成圖文的最基本的單位。
套規(guī)線時(shí)可能套得不準(zhǔn)，為了解決這個(gè)問題，我們?cè)谔滓?guī)線的時(shí)候一定要用放大鏡復(fù)校。
陽(yáng)圖型PS版防止除臟曝光過度，可減少二次曝光時(shí)間。
燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時(shí)，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。
平版印刷時(shí)我們應(yīng)該先上墨，再上水。
采用面光源曬版時(shí)，可通過縮小燈距和使用分光格將面光源分割成局部點(diǎn)光源等方式。既可提高曝光速度，又可減少散射光和漫射光。
翻轉(zhuǎn)型曬版機(jī)又可稱為雙面曬版機(jī)，它的裝版準(zhǔn)備和曝光可同時(shí)交替運(yùn)行，工作效率高，封閉遮光性能好。