A.一點透視
B.三點透視
C.兩點透視
D.無透視
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A.使用剪切平面(Clipping Planes)可以排除場景中的一些對象,而且能夠只查看或渲染場景的某些部分。
B.對于攝影機,比近距剪切(Near Clip)近或比遠(yuǎn)距剪切(Far Clip)遠(yuǎn)的對象是不可視的。
C.剪切平面(Clipping Planes)可以作為獨立的修改器添加給攝影機。
D.在非攝影機視口中也可以使用剪切平面(Clipping Planes),只需右鍵單擊視口標(biāo)簽,在彈出的右鍵下拉菜單中選擇視口剪切(Viewport Clipping)命令即可。
A.目標(biāo)平行光(Target Directional Light)
B.目標(biāo)聚光燈(Target Spotlight)
C.泛光燈(Omni Light)
D.天光(Skylight)
A.目標(biāo)平行光(Target Directional Light)
B.目標(biāo)聚光燈(Target Spotlight)
C.泛光燈(Omni Light)
自由平行光(Free Directional Light
A.泛光燈(Omni)
B.目標(biāo)聚光燈(Spot)
C.天光(Sky)
D.平行光(Directional)
A.陰影貼圖(Shadow MAP)的優(yōu)點是能夠產(chǎn)生軟陰影,速度最快。缺點是占用內(nèi)存量大,不支持透明或不透明貼圖的對象,不支持體積光。
B.光線跟蹤陰影(Ray Traced Shadows)的優(yōu)點是支持透明或不透明貼圖,能夠產(chǎn)生較實的陰影。缺點是可能會比陰影貼圖漫,不支持軟陰影。
C.區(qū)域陰影(Area Shadows)的優(yōu)點是支持透明或不透明貼圖,占用非常少的內(nèi)存資源,支持不同格式的區(qū)域陰影。缺點是速度比陰影貼圖漫,不支持軟陰影。
D.高級光線跟蹤陰影(Adv Ray Trace D.優(yōu)點是占用內(nèi)存比光線跟蹤陰影少,速度比陰影貼圖快。缺點是不支持軟陰影,不支持透明與不透明貼圖。
最新試題
使用對齊按鈕時,每次只能對兩個對象進(jìn)行操作。
當(dāng)前活動的視圖帶有紅色線框。
迭代次數(shù)的數(shù)值設(shè)置的越大越好。
封閉二維圖形之間,肯定能夠進(jìn)行布爾運算。
只要調(diào)整頂點的參數(shù)及樣條線的參數(shù),就可以生成復(fù)雜的二維圖形。
彎曲和扭曲等修改器,只能作用于整個對象,不能作用于對象的局部。
在使用平滑修改器時,迭代次數(shù)越大,模型越平滑。
對于復(fù)雜的場景,歸檔場景是一種非常重要的保存方法,這種操作不會丟失任何文件。
如果想要刪除某個修改器,不可以在選中某個修改器后按delete鍵,那樣刪除的將會是物體本身,而并非單個的修改器。
使用鏡像工具可以圍繞一個軸心徑向出一個或多個副本對象。