A.水溶性試驗(yàn)
B.容水量試驗(yàn)
C.水洗性試驗(yàn)
D.粘度測(cè)定
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.保持不干狀態(tài)10~15mis
B.第一遍干燥后,再涂第二遍的時(shí)間間隔
C.1~2mis即可
D.全不對(duì)
A.水洗型
B.后乳化型
C.溶劑型
D.熒光型
A.零件截面厚度變化大
B.安倍值太高
C.表面附近有鉆孔
D.以上都是
A.現(xiàn)場(chǎng)記錄磁痕,如有可能應(yīng)采用復(fù)印法
B.磁痕復(fù)印需在磁痕干燥后進(jìn)行
C.用拍照法記錄磁痕時(shí)需把量尺同時(shí)拍攝進(jìn)去
D.以上都對(duì)
A.白磁粉法
B.白磁懸液
C.黑磁懸液
D.熒光磁懸液
最新試題
確定滲透劑是否具有高的滲透能力的主要參數(shù)有()。
后乳化型熒光滲透劑本身不含乳化劑,不起乳化作用,需經(jīng)乳化后才能用水清洗,不易被去除,可以用于()的檢驗(yàn)。
對(duì)底片進(jìn)行評(píng)定時(shí),首先對(duì)底片進(jìn)行質(zhì)量檢查,不滿(mǎn)足要求的底片不予評(píng)定,質(zhì)量檢查項(xiàng)目有()。
當(dāng)障礙物尺寸Df< < 波長(zhǎng)λ時(shí),會(huì)出現(xiàn)以下()等現(xiàn)象。
屬于γ射線(xiàn)探傷設(shè)備的操作故障有()。
磁粉檢測(cè)用的黑光燈發(fā)出的光包含有(),而把不需要的光線(xiàn)用濾光片過(guò)濾掉。
常用的顯像方法包括()。
底片靈敏度的檢查內(nèi)容包括像質(zhì)計(jì)()要達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的要求。
用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問(wèn)題有()。
滲透檢測(cè)通常在()前進(jìn)行,表面處理后局部加工時(shí)需再次檢測(cè)。