多項(xiàng)選擇題干法蝕刻通常指利用輝光放電方式，產(chǎn)生等離子體來(lái)進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移的蝕刻技術(shù)。其中等離子體含有（）。

A.離子、電子
B.中性原子
C.分子
D.自由基


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1.多項(xiàng)選擇題廣義而言，所謂的蝕刻技術(shù)可以分為（）。

A.干蝕刻
B.濕蝕刻
C.中性蝕刻
D.無(wú)側(cè)蝕蝕刻

2.多項(xiàng)選擇題在堿性氯化銅蝕刻中，造成蝕刻過(guò)度的原因可能有（）。

A.傳送速度太慢
B.pH值過(guò)高
C.蝕刻液比重偏低
D.蝕刻液溫度不足

3.多項(xiàng)選擇題在堿性氯化銅蝕刻中，造成蝕刻不足的原因可能有（）。

A.傳送速度太快
B.pH值太低
C.蝕刻液溫度不足
D.噴淋壓力不足

4.多項(xiàng)選擇題堿性蝕刻液再生方法有（）。

A.結(jié)晶法
B.萃取法
C.中和法
D.空氣再生法

5.多項(xiàng)選擇題酸性氯化銅蝕刻體系中常用的氯化物的種類為（）。

A.氯化鈉
B.氯化氫
C.氯化鈣
D.氯化鎂