A.能否做開(kāi)閉、側(cè)方和前伸運(yùn)動(dòng)
B.髁導(dǎo)斜度能否調(diào)節(jié)
C.側(cè)柱距離能否調(diào)節(jié)
D.切導(dǎo)斜度能否調(diào)節(jié)
E.以上皆不是
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B.解剖式印模
C.加壓印模
D.減壓印模
E.均勻性印模
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B.基托組織面有倒凹
C.基托組織面有瘤子
D.取印模時(shí)有托盤壓痕
E.牙槽嵴上有骨突
A.頸部向遠(yuǎn)中傾斜
B.牙頸部向后側(cè)突出
C.牙尖略向舌側(cè)傾斜
D.牙尖在牙合平面上
E.遠(yuǎn)中唇面向舌側(cè)扭轉(zhuǎn)
A.頸部向遠(yuǎn)中傾斜
B.牙頸部向后側(cè)突出
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D.牙尖在牙合平面上
E.遠(yuǎn)中唇面向舌側(cè)扭轉(zhuǎn)
最新試題
磁性附著體戴用后的注意事項(xiàng),不包括()。
可摘局部義齒的固位體對(duì)基牙產(chǎn)生固位作用的力是()。
取戴義齒時(shí)痛,應(yīng)()。
先制取初印模后,在初印模上均勻去出一層印模材料,然后再制取終印模是()。
Kennedy第一類缺失,基牙向遠(yuǎn)中傾斜。擬用可摘局部牙齒修復(fù),義齒戴入的方向是()。
全口義齒基托需要緩沖的地方是()。
下頜牙槽嵴吸收的方向是()。
患者采用固定義齒修復(fù),若缺牙間隙大于同名牙,可采取的符合美學(xué)的措施為()。
冠外附著體的基牙牙冠齦距大于()。
單端固定橋的適應(yīng)證不包括()。