A.咬合不良
B.新義齒造成
C.義齒基托塑料聚合不全
D.牙槽嵴黏膜過敏
E.取模不準
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A.調(diào)牙合
B.緩沖
C.重襯
D.重做
E.不處理
患者女，58歲，
缺失，余牙正常、均穩(wěn)固，舌系帶至牙齦距離為10mm，下頜舌側牙槽骨形態(tài)為垂直型，設計鑄造可摘局部義齒修復。
設計RPI卡環(huán)組。
A.頰側遠中，觀測線上緣
B.頰側近中，觀測線下方的非倒凹區(qū)
C.頰側遠中，觀測線上方的非倒凹區(qū)
D.頰側近中，觀測線上方的非倒凹區(qū)
E.頰側遠中，觀測線下方的倒凹區(qū)
患者女，58歲，缺失，余牙正常、均穩(wěn)固，舌系帶至牙齦距離為10mm，下頜舌側牙槽骨形態(tài)為垂直型，設計鑄造可摘局部義齒修復。設計RPI卡環(huán)組。
A.
舌支托
B.切支托
C.前牙舌隆突上的連續(xù)桿
D.
放置鄰間溝
E.附加卡環(huán)
患者女，58歲，缺失，余牙正常、均穩(wěn)固，舌系帶至牙齦距離為10mm，下頜舌側牙槽骨形態(tài)為垂直型，設計鑄造可摘局部義齒修復。設計RPI卡環(huán)組。
基牙
舌側應用何形式與頰側Ⅰ桿對抗（）
A.高基托
B.舌側對抗卡環(huán)
C.近中牙合支托小連接體
D.導平面
E.鄰面板
患者女，58歲，缺失，余牙正常、均穩(wěn)固，舌系帶至牙齦距離為10mm，下頜舌側牙槽骨形態(tài)為垂直型，設計鑄造可摘局部義齒修復。設計RPI卡環(huán)組。
A.為防止該義齒受力下沉后舌桿壓迫軟組織，舌桿處應余留0.5mm的緩沖間隙
B.如缺牙區(qū)牙槽嵴狀況較差而基牙條件較好，不宜使用近中支托設計
C.此設計使基托下組織受力均勻且方向接近垂直
D.近中牙合支托小連接體可防止游離端義齒向遠中移位
E.鄰面板可防止食物嵌塞