理想氣體的壓強(qiáng)公式是:()
A.A
B.B
C.C
D.D
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A.3/2pV
B.5/2pV
C.1/2pV
D.pV
A.凈功增大,效率提高
B.凈功增大,效率降低
C.凈功和功率都不變
D.凈功增大,效率不變
A.W>0,△E>0
B.W<0,△E<0
C.W>0,△E=0
D.W<0,△E>0
A.溫度相同,氦分子和氮分子的平均動(dòng)能相同
B.溫度相同,氦分子和氮分子的平均動(dòng)能不同
C.溫度不同,氦分子和氮分子的平均動(dòng)能相同
D.溫度不同,氦分子和氮分子的平均動(dòng)能不同
A.△E2=△E1,Q2>Q1
B.△E2=△E1,Q2
C.△E2>△E1,Q2>Q1
D.△E2<>△E1,Q2
最新試題
真空中波長為λ的單色光,在折射率為n的均勻透明媒質(zhì)中,從A點(diǎn)沿某一路徑傳播到B點(diǎn)。設(shè)路徑的長度為ι,A、B兩點(diǎn)光振動(dòng)相位差記為△φ,則ι和△φ的值分別為:()
如果兩個(gè)偏振片堆疊在一起,且偏振化方向之間夾角呈60°,假設(shè)二者對光無吸收,光強(qiáng)為I的自然光垂直入射在偏振片上,則出射光強(qiáng)為:()
如果兩個(gè)偏振片堆疊在一起,且偏振化方向之間夾角呈30°,假設(shè)二者對光無吸收,光強(qiáng)為I0的自然光垂直入射在偏振片上,則出射光強(qiáng)為:()
一單色光垂直照射在空氣劈尖上,當(dāng)劈尖的劈角增大時(shí),各級(jí)干涉條紋將有下列中的何種變化?()
波長為λ的單色平行光垂直入射到薄膜上,已知n1>n3,如圖所示。則從薄膜上、下兩表面反射的光束①與②的光程差是:()
一束白光垂直射到一光柵上,在形成的同一級(jí)光柵光譜中,偏離中央明紋最遠(yuǎn)的是:()
用波長為λ的單色光垂直照射到空氣劈尖上,從反射光中觀察干涉條紋,距頂點(diǎn)為L處是暗條紋。使劈尖角θ連續(xù)變大,直到該點(diǎn)處再次出現(xiàn)暗條紋為止(見圖)。則劈尖角的改變量△θ是:()
用劈尖干涉法可檢測工件表面缺陷,當(dāng)波長為λ的單色平行光垂直入射時(shí),若觀察到的干涉條紋如圖所示,每一條紋彎曲部分的頂點(diǎn)恰好與其左邊條紋的直線部分的連線相切,則工件表面與條紋彎曲處對應(yīng)的部分應(yīng):()
三個(gè)偏振片P1、P2與P3堆疊在一起,P1與P3的偏振化方向相互垂直,P2與P1的偏振化方向間的夾角為30°。強(qiáng)度為I0的自然光垂直入射于偏振片P1,并依次透過偏振片P1、P2與P3,則通過三個(gè)偏振片后的光強(qiáng)為:()
在雙縫裝置實(shí)驗(yàn)中,對于給定的入射單色光,當(dāng)雙縫間距增大時(shí),則屏幕上干涉條紋的變化情況是:()