A.減少側(cè)向力
B.減小牙尖的厚度
C.增加牙尖斜度
D.增加牙尖高度
E.增加固位力
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.位于腭皺襞之后上腭硬區(qū)之前,厚約1.0mm,寬約6~8mm
B.位于腭皺襞之后上腭硬區(qū)之后,厚約1.0mm,寬約6mm
C.位于腭皺襞處,厚約0.6mm,寬約8mm
D.位于上腭硬區(qū),厚約1.0mm,寬約5mm
E.位于上腭硬區(qū)之后,厚約1.5mm,寬約8mm
A.5~8mm以上
B.8mm以上
C.1~2mm
D.3~4mm
E.4~5mm
A.遠(yuǎn)中頰角區(qū)應(yīng)充分伸展
B.下頜舌側(cè)翼緣區(qū)應(yīng)充分伸展
C.舌下腺區(qū)應(yīng)充分伸展
D.下頜隆突應(yīng)充分伸展
E.磨牙后墊區(qū)應(yīng)充分伸展
A.固位好
B.易清潔
C.牙周刺激小
D.美觀
E.邊緣密合
A.減輕橋體所受(牙合)力
B.戴用自凝樹脂暫時(shí)橋觀察,待牙周條件改善之后換永久性修復(fù)體
C.進(jìn)行完善的牙周治療
D.適當(dāng)增加基牙
E.后牙固位體盡量設(shè)計(jì)齦上邊緣
A.后腭1/3部分
B.后腭2/3部分
C.前腭2/5部分
D.前腭1/2部分
E.前腭1/3部分
A.開盒時(shí)用力過大
B.戴義齒時(shí)磨除過多
C.瓊脂印模質(zhì)量不好
D.高溫包埋材料的熱膨脹系數(shù)不夠
E.模型有缺損
A.蓋過磨牙后墊全部
B.暴露磨牙后墊
C.蓋過磨牙后墊1/2
D.蓋過磨牙后墊的1/3
E.蓋過磨牙后墊的1/2~2/3
A.上前牙由唇側(cè)斜向舌側(cè)
B.下前牙由舌側(cè)斜向唇側(cè)
C.尖牙要形成近、遠(yuǎn)中兩個(gè)斜面
D.預(yù)備出0.5mm以上的間隙
E.近、遠(yuǎn)中向成平面,與牙長軸呈直角
A.牙本質(zhì)過敏
B.已有繼發(fā)齲,但未發(fā)展為牙髓炎
C.已發(fā)展為牙髓炎
D.存在牙齦炎或牙周炎
E.已發(fā)展為根尖周炎
最新試題
根尖周囊腫襯里上皮的組織主要來源是()
耳屏前形成的皮膚盲管可能是由于()
生理牙列前伸(牙合)時(shí),除前牙接觸外,還有()
關(guān)于牙骨質(zhì)的組成,錯(cuò)誤的是()
早期釉質(zhì)齲病變的暗層()
牙乳頭可分化形成()
三角嵴位置()
下列對斜嵴的解釋哪一個(gè)是正確的()
不屬于替牙期間(牙合)特點(diǎn)的是()
下列哪一項(xiàng)術(shù)后較易復(fù)發(fā)()