A.質(zhì)量阻止本領(lǐng)比
B.線性組織本領(lǐng)比
C.線性散射本領(lǐng)比
D.質(zhì)能吸收系數(shù)比
E.質(zhì)量散射本領(lǐng)比
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A.百分深度劑量表示的是體模內(nèi)射野中心軸上任意一點(diǎn)的劑量率與參考深度處的劑量率之比
B.組織空氣比表示的是體模內(nèi)射野中心軸上某點(diǎn)的劑量率與射野中心軸上同一點(diǎn)的"空氣中小質(zhì)量的水的劑量率"之比
C.組織模體比表示的是空氣中中心軸上任意一點(diǎn)的劑量率與空間同一點(diǎn)模體育中射野中心軸上參考深度處的同一射野的劑量率之比
D.準(zhǔn)直器散射因子表示的是射野在空氣中的劑量率與參考射野(一般為10cm×10cm)在空氣中的劑量率之比
E.總散射因子表示的是射野在模體中的劑量率與參考射野(一般為10cm×l0cm)在模體中的劑量率之比
A.1.48
B.2.35
C.8.25
D.13.1
E.82.5
A.±0.5mm
B.±1.0mm
C.±2.0mm
D.±3.0mm
E.±5.0mm
A.發(fā)生概率隨劑量的增高而升高
B.受影響個體的嚴(yán)重性不取決于劑量的效應(yīng)
C.不存在真正的隨機(jī)效應(yīng)閾值劑量
D.在極小劑量水平也存在小的發(fā)生概率
E.達(dá)到一定劑量水平才可能發(fā)生
A.電子槍
B.加速管
C.X射線靶
D.磁控管
E.電子槍燈絲
最新試題
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動能率相等。
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帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
電離室型劑量儀在每次測量前必需對氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時,應(yīng)采用雙平面插植。
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對射野輸出劑量的檢測頻率,加速器高于鈷60機(jī)。
源皮距越小,百分深度劑量越大。