A.離軸比數(shù)據(jù)是給出模體內(nèi)指定深度處所測(cè)量的垂直于中心軸的射野劑量曲線
B.結(jié)合中心軸劑量貢獻(xiàn)和離軸比數(shù)據(jù)可生成體積劑量矩陣,可以提供二位和三維劑量分布信息
C.在射野半影區(qū)等劑量曲線的劑量改變非常緩慢,并且受準(zhǔn)直器開口,焦點(diǎn)的有效大小和側(cè)向電子平衡的影響
D.兆伏級(jí)X射線的射野等劑量曲線包括了中心區(qū)、半影區(qū)和射野外三個(gè)明顯的區(qū)域
E.由于來自于準(zhǔn)直器和機(jī)頭防護(hù)部分的穿透輻射,遠(yuǎn)離射野邊緣的區(qū)域劑量通常很低
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A.距離延長(zhǎng)后,X射線在射野內(nèi)的散射線成分增加
B.患者在接受治療時(shí)由于需用毯子蓋在身上,因而增加了入射劑量
C.患者在接受治療時(shí)蓋在身上的毯子,其等效水厚度約為1.5mm
D.需用散射及能量衰減屏,以減小劑量在體內(nèi)的建成
E.由于要用毯子蓋在患者身上,因而可不必使用散射及能量衰減屏
A.μ/ρ
B.μ
C.mA
D.HVL
E.MV
A.有最大的輻射泄露
B.高估工作量,使用和居留因子
C.產(chǎn)生X射線和電子加速器,始終工作在X線模式
D.雙能量加速器,始終工作在高能狀態(tài)
E.患者位置
A.表面測(cè)量
B.最大劑量深度處測(cè)量
C.5cm深度處測(cè)量
D.7cm深度處測(cè)量
E.10cm深度處測(cè)量
A.準(zhǔn)直器的散射線
B.均整塊的散射線
C.模體的反向散射線
D.光子與射野擋塊所產(chǎn)生的散射電子
E.治療機(jī)房的墻壁所產(chǎn)生的散射線
最新試題
人體曲面校正的組織空氣比法或組織最大劑量比方法的修正因子CF的表達(dá)式是()。
百分深度劑量受照射野面積的影響。
準(zhǔn)直器所產(chǎn)生的散射線對(duì)劑量的貢獻(xiàn)主要源于二級(jí)準(zhǔn)直器。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
實(shí)際患者治療時(shí),無環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
對(duì)射野輸出劑量的檢測(cè)頻率,加速器高于鈷60機(jī)。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。