A.1mm
B.2mm
C.3mm
D.4mm
E.5mm
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A.MLC靜態(tài)調(diào)強時，葉片寬度無要求
B.MLC靜態(tài)調(diào)強時，不必考慮葉片運動速度問題
C.MLC靜態(tài)調(diào)強對劑量率穩(wěn)定性的要求比動態(tài)調(diào)強要高
D.MLC葉片到位精度只影響射野邊緣的劑量分布，MLC選擇不予考慮
E.選擇MLC要考慮小跳數(shù)時射束輸出的特性
A.先變窄，后變寬
B.先變寬，后變窄
C.不變
D.逐漸變寬
E.逐漸變窄
A.142
B.159
C.200
D.220
E.290
A.1個
B.30個
C.128個
D.201個
E.256個
A.指型電離室
B.半導(dǎo)體探測器
C.井行電離室
D.閃爍計數(shù)器
E.正比計數(shù)器
最新試題
帶電粒子入射到物體時，沒有確定的射程。
實際患者治療時，無環(huán)重定位技術(shù)的靶點位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
對鈷60機射野的對稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
治療證實是治療準確執(zhí)行的重要保證，包括驗證記錄系統(tǒng)，射野影像系統(tǒng)，活體劑量測量系統(tǒng)。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時，應(yīng)采用雙平面插植。
電離室型劑量儀在每次測量前必需對氣溫和氣壓進行修正。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動能率相等。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡稱分別為QA、QC。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達到（）。