A.12.5°偏轉(zhuǎn)
B.45°偏轉(zhuǎn)
C.90°偏轉(zhuǎn)
D.112.5°(滑雪式)偏轉(zhuǎn)
E.270°(消色散)偏轉(zhuǎn)
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A.原射電子的反向散射
B.電子束的小角度多級(jí)散射
C.不規(guī)則射野輸出因子的計(jì)算
D.斜入射對(duì)劑量影響的處理需進(jìn)一步完善
E.高能次級(jí)電子在不均勻組織中的劑量計(jì)算
A.均整器
B.X射線靶
C.初級(jí)準(zhǔn)直器
D.二級(jí)準(zhǔn)直器
E.監(jiān)測(cè)電離室
A.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
B.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所位置不均勻組織的厚度
C.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度
D.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
E.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
A.源皮距
B.射野面積
C.組織深度
D.離軸距離
E.計(jì)算網(wǎng)格
A.化療
B.常規(guī)放射治療
C.肝移植
D.介入治療+立體定向放射治療
E.營(yíng)養(yǎng)支持治療
最新試題
帶電粒子入射到物體時(shí),沒有確定的射程。
治療證實(shí)是治療準(zhǔn)確執(zhí)行的重要保證,包括驗(yàn)證記錄系統(tǒng),射野影像系統(tǒng),活體劑量測(cè)量系統(tǒng)。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
百分深度劑量受照射野面積的影響。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達(dá)到()。
光電效應(yīng)時(shí)入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能,另一部分為特征X 射線能量。
等效射野指的是通過計(jì)算換算后的方形野。