A.劑量建成區(qū)
B.低劑量坪區(qū)
C.高劑量坪區(qū)
D.X射線污染區(qū)
E.劑量跌落區(qū)
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A.照射野平面上出現(xiàn)幾率最大的電子的能量
B.照射野平面上電子的平均能量
C.照射野平面上電子的最大能量
D.照射野平面上1╱3最大電子能量
E.照射野平面上最大射程的電子的能量
A.居里
B.倫琴
C.Gy
D.庫侖
E.希弗
A.單位劑量大
B.靶區(qū)周邊劑量變化梯度大
C.要求高精確度定位
D.對(duì)輻射抗拒的病灶細(xì)胞無效
E.靶區(qū)劑量分布不均勻
A.MeV
B.J
C.cm-1
D.MeVcm-1
E.Sv
A.百分深度劑量
B.組織空氣比
C.散射空氣比
D.組織體模比
E.組織最大化
最新試題
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱分別為QA、QC。
帶電粒子入射到物體時(shí),沒有確定的射程。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
LET=()Kev/μm 是高低LET 射線的分界線。
對(duì)加速器射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月兩次。
對(duì)射野輸出劑量的檢測(cè)頻率,加速器高于鈷60機(jī)。
光電效應(yīng)時(shí)入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能,另一部分為特征X 射線能量。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。