：指機(jī)體被某種藥物致敏后，可能同時對與該種藥物化學(xué)結(jié)構(gòu)相似或存在共同化學(xué)基團(tuán)的藥物產(chǎn)生過敏。
指個體處于高敏狀態(tài)時，可能對某些平常不過敏、與致敏藥物化學(xué)結(jié)構(gòu)不同的藥物也產(chǎn)生過敏。
最新試題
交叉過敏
以下關(guān)于重癥藥疹的治療描述正確的有
藥疹初次用藥的潛伏期一般為4～20日。
試述重癥藥疹的治療要點(diǎn)。
藥疹初次使用的潛伏期一般為()
好發(fā)于皮膚-粘膜交界處的藥疹是 ( )
以下關(guān)于變態(tài)反應(yīng)性藥疹的描述正確的有()
放射造影劑可引起組胺釋放。
皮損局限，無對稱性分布傾向的藥疹為()
列舉藥疹的常見種類。