氯化銨法測(cè)定二氧化硅方法中
①即使在試樣燒結(jié)正常、分解完全、沉淀洗滌充分等諸操作條件掌握良好的情況下，在二氧化硅的沉淀中吸附的（）等雜質(zhì)量也能達(dá)到00.1～0.2％。
②對(duì)不溶物含量高的樣品來(lái)說(shuō)，如果不經(jīng)過(guò)氫氟酸處理，二氧化硅結(jié)果仍會(huì)偏高（），對(duì)燒結(jié)不好的試樣來(lái)說(shuō)，硅的結(jié)果將更加偏高，同時(shí)使（）的結(jié)果偏低。
③氯化銨法硅酸脫水不可能完全，總有少量硅酸進(jìn)入濾液中，漏失量與干涸、沉淀研細(xì)程度、過(guò)濾速度、濾紙質(zhì)量等諸因素有關(guān)，漏失量可從（）。
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