平面截切體截交線的求解方法有（）。

第三角畫法的三個(gè)視圖分別是（）。

塔設(shè)備通常較高，其內(nèi)件結(jié)構(gòu)和排布具有一定的規(guī)律性，因此常采用（）等表達(dá)方法。

有回轉(zhuǎn)軸的機(jī)件適合采用（）進(jìn)行剖切。

化工設(shè)備上的接管和附件通常采用（）表達(dá)。

點(diǎn)A、B為W面上的重影點(diǎn)，且點(diǎn)A在點(diǎn)B之右，其在W面上可寫作（）。

高大塔設(shè)備常采用（）支座。

繪制化工設(shè)備圖應(yīng)遵循的基本原則有（）。

化工設(shè)備通常由主視圖和俯（左）視圖兩個(gè)基本視圖表達(dá)，主視圖一般采用（）。

截平面截切圓柱，該圓柱軸線與水平面垂直，截平面與圓柱軸線傾斜且夾角為（）時(shí)，其截交線的投影為圓。