碳四裝置催化劑再生前需要對待再生反應(yīng)系統(tǒng)做（）

氣體分餾裝置處理量頻繁變化時(shí)，實(shí)際是氣體分餾裝置的（）頻繁被打破。

氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

除去儀表問題，脫乙烷塔壓力波動實(shí)質(zhì)是（）被破壞。

引起脫異丁烷塔底溫高的原因，以下正確的是（）

若脫乙烷塔操作不好，將碳二帶至丙烯塔，丙烯塔在開車建立循環(huán)過程中會出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

氣溫升高時(shí)，氣體分餾裝置在操作上應(yīng)（）

碳四裝置再生過程中需要（）介質(zhì)進(jìn)行再生操作。

碳四裝置再生溫度超高的因素有（）