A.<±1%
B.<±3%
C.<±5%
D.<±7%
E.<±10%
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A.胚胎細(xì)胞、轉(zhuǎn)化細(xì)胞、成熟細(xì)胞
B.干細(xì)胞、轉(zhuǎn)化細(xì)胞、成熟細(xì)胞
C.原始細(xì)胞、分裂細(xì)胞、成熟細(xì)胞
D.胚胎細(xì)胞、分裂細(xì)胞、成熟細(xì)胞
E.干細(xì)胞、分裂細(xì)胞、成熟細(xì)胞
A.無關(guān)
B.成正比
C.成反比
D.平方成正比
E.平方成反比
A.靶區(qū)適合度定義為處方劑量與計(jì)劃靶區(qū)表面相交的處方劑量面包括的體積與對(duì)應(yīng)的臨床靶區(qū)體積之比
B.對(duì)圓形或橢圓形靶區(qū),旋轉(zhuǎn)照射野的靶區(qū)適合度最差
C.對(duì)圓形靶區(qū),多野交角照射比旋轉(zhuǎn)照射的靶區(qū)適合度更好
D.對(duì)矩形靶區(qū),沿長(zhǎng)、短邊布置的兩對(duì)對(duì)穿野的靶區(qū)適合度比三野交角照射好
E.當(dāng)靶區(qū)表面沿射野方向到皮膚表面的有效深度呈一維線性變化時(shí),兩野垂直交角加楔形板亦可取得較好的靶區(qū)適合度
A.10mSv
B.20mSv
C.50mSv
D.100mSv
E.500mSv
A.小野三維集束單次大劑量
B.小野三維集束單次小劑量
C.小野三維集束多次大劑量
D.小野三維集束多次小劑量
E.大野三維集束多次大劑量
最新試題
電離室型劑量?jī)x在每次測(cè)量前必需對(duì)氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
伽瑪?shù)栋悬c(diǎn)位置精度高于X射線立體定向治療系統(tǒng)的精度。
對(duì)射野輸出劑量的檢測(cè)頻率,加速器高于鈷60機(jī)。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變?cè)叫 ?/p>
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
LET=()Kev/μm 是高低LET 射線的分界線。
射野中心軸上百分深度劑量值的大小直接反應(yīng)了射線質(zhì)(能量)的高低。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。