多項(xiàng)選擇題低變催化劑還原介質(zhì)可以用()。

A.Ar
B.N2
C.工藝氣
D.H2


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1.單項(xiàng)選擇題低變催化劑還原結(jié)束的標(biāo)志為()。

A.入口溫度提高到100攝氏度,催化劑各層經(jīng)歷反應(yīng)溫升后降至與入口溫度相等,出口氫含量達(dá)到2%,已無氫耗,實(shí)際氫耗量與理論氫耗量小于5%
B.入口溫度提高到100攝氏度,催化劑各層經(jīng)歷反應(yīng)溫升后降至與入口溫度相近,出口氫含量達(dá)到20%,已無氫耗,實(shí)際出水量與理論出水量相等
C.入口溫度提高到200攝氏度,催化劑各層經(jīng)歷反應(yīng)溫升后降至與入口溫度相近,出口氫含量達(dá)到20%,已無氫耗,實(shí)際氫耗量與理論氫耗量小于5%
D.入口溫度提高到200攝氏度,催化劑各層經(jīng)歷反應(yīng)溫升后降至與入口溫度相等,出口氫含量達(dá)到2%,已無氫耗,實(shí)際出水量與理論出水量相等

3.單項(xiàng)選擇題合成系統(tǒng)定期進(jìn)行排放的目的是()。

A.降壓
B.排除系統(tǒng)中惰性氣體
C.降溫
D.提高循環(huán)氣流量

5.單項(xiàng)選擇題建立MDEA循環(huán)要具備()。

A.高壓部分充氮?dú)?br /> B.兩塔壓力相等
C.不必充氮?dú)?br /> D.氮?dú)庵脫Q合格