單項(xiàng)選擇題壓漿完成后,應(yīng)保持不小于()且不少于3min的穩(wěn)壓期。

A.0.5Mpa
B.0.6Mpa
C.0.7Mpa
D.0.8Mpa


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1.單項(xiàng)選擇題當(dāng)基樁存在擴(kuò)徑時(shí),相應(yīng)機(jī)械阻抗會(huì)()。

A.減少
B.增強(qiáng)
C.先減少后增強(qiáng)
D.先增強(qiáng)后減少

2.單項(xiàng)選擇題基樁低應(yīng)變檢測時(shí),控制()以獲得精晰的樁身阻抗變化的反射或樁底反射。

A.激振力度
B.耦合程度
C.激勵(lì)脈沖信號(hào)的寬窄
D.增益設(shè)置

3.單項(xiàng)選擇題鋼質(zhì)護(hù)欄立柱埋入深度的檢測中,影響檢測精度因素中不包括()。

A.柱頂敲擊點(diǎn)平整度
B.柱內(nèi)共鳴
C.行駛中的車輛
D.環(huán)境噪音

5.單項(xiàng)選擇題在用反射波檢測均質(zhì)基樁樁身時(shí),若機(jī)械阻抗相同,則()。

A.產(chǎn)生反射
B.不產(chǎn)生反射
C.產(chǎn)生折射
D.不產(chǎn)生折射

最新試題

對(duì)含有內(nèi)穿過式線圈的薄壁管,影響其阻抗變化的因素有()

題型:單項(xiàng)選擇題

廢舊藥液應(yīng)采用專用容器收集,定期送指定的機(jī)構(gòu)處理。

題型:判斷題

X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對(duì)需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注,確保定位準(zhǔn)確。

題型:判斷題

底片圖像質(zhì)量參數(shù)中的顆粒度與膠片的粒度是同一概念。

題型:判斷題

送檢產(chǎn)品工序狀態(tài)及表面質(zhì)量應(yīng)符合工藝規(guī)程或工藝處理意見的要求,經(jīng)表面檢驗(yàn)合格,申請(qǐng)單無需檢驗(yàn)蓋章確認(rèn)。

題型:判斷題

探傷人員在透視間內(nèi)發(fā)現(xiàn)輻射正在進(jìn)行應(yīng)立即()。

題型:單項(xiàng)選擇題

超差缺陷是否排除,由缺陷挖排人員挖排后直接提出申請(qǐng)、檢驗(yàn)蓋章認(rèn)可后送X光檢測。

題型:判斷題

X光檢驗(yàn)組按復(fù)查清單組織復(fù)查,并出具X光底片復(fù)查報(bào)告,復(fù)查無遺留問題方可進(jìn)行試壓。

題型:判斷題

一次完整的補(bǔ)焊過程中缺陷是否排除X光透照確認(rèn)可以不限次數(shù),直至缺陷完全排除。

題型:判斷題

提出有效磁導(dǎo)率的是下列哪位科學(xué)家()

題型:單項(xiàng)選擇題