單項(xiàng)選擇題如果一個(gè)機(jī)件的三個(gè)視圖均采用剖視圖表達(dá),則各個(gè)視圖中的剖面線應(yīng)()。
A.方向一致
B.間隔均勻
C.方向一致、間隔均勻
D.方向不同、間隔均勻
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1.單項(xiàng)選擇題半剖視圖適合于()機(jī)件的表達(dá)。
A.內(nèi)部結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜的
B.外部結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜的
C.內(nèi)外結(jié)構(gòu)都比較復(fù)雜的
D.任何形狀
2.多項(xiàng)選擇題全剖視圖可以采用()剖切面進(jìn)行剖切。
A.單一
B.幾個(gè)平行
C.幾個(gè)相交的
D.最多兩個(gè)
3.單項(xiàng)選擇題有回轉(zhuǎn)軸的機(jī)件適合采用()進(jìn)行剖切。
A.單一剖切面
B.多個(gè)平行的剖切面
C.相交的剖切面
4.單項(xiàng)選擇題標(biāo)注剖切位置時(shí),采用()短劃來表示。
A.細(xì)實(shí)線
B.粗實(shí)線
C.虛線
D.點(diǎn)畫線
5.多項(xiàng)選擇題相貫線的投影為非圓曲線時(shí),其特殊點(diǎn)可以是()。
A.最高點(diǎn)
B.最低點(diǎn)
C.最左點(diǎn)
D.轉(zhuǎn)向輪廓線上的點(diǎn)
最新試題
點(diǎn)A、B為W面上的重影點(diǎn),且點(diǎn)A在點(diǎn)B之右,其在W面上可寫作()。
題型:單項(xiàng)選擇題
繪制化工設(shè)備圖應(yīng)遵循的基本原則有()。
題型:多項(xiàng)選擇題
化工設(shè)備通常由主視圖和俯(左)視圖兩個(gè)基本視圖表達(dá),主視圖一般采用()。
題型:單項(xiàng)選擇題
對(duì)于高大的塔設(shè)備,其裝配圖可采用()以降低總體高度。
題型:單項(xiàng)選擇題
臥式設(shè)備應(yīng)采用()支座。
題型:單項(xiàng)選擇題
可以利用緯圓法求解立體表面點(diǎn)的幾何體有()。
題型:多項(xiàng)選擇題
標(biāo)注剖切位置時(shí),采用()短劃來表示。
題型:單項(xiàng)選擇題
化工設(shè)備上的接管和附件通常采用()表達(dá)。
題型:單項(xiàng)選擇題
根據(jù)設(shè)備的結(jié)構(gòu)特點(diǎn),繪制設(shè)備裝配圖時(shí)主要是()。
題型:多項(xiàng)選擇題
T形接頭和搭接接頭的焊縫均屬()。
題型:單項(xiàng)選擇題