A．縱向磁化；
B．周向磁化；
C．復(fù)合磁化；
D．剩余磁化
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A．周向磁化；
B．縱向磁化；
C．A和B；
D．A和B都不是
A．產(chǎn)生強(qiáng)顯示；
B．產(chǎn)生弱顯示；
C．不產(chǎn)生顯示；
D．產(chǎn)生模糊顯示
A．與缺陷寬深比無(wú)關(guān)；
B．缺陷深度至少是其寬度的5倍；
C．缺陷的寬深比為1；
D．以上都不是
A．與磁場(chǎng)成180°角；
B．與磁場(chǎng)成45°角；
C．與磁場(chǎng)成90°角；
D．與電場(chǎng)成90°角
A、影響零件的磁導(dǎo)率
B、對(duì)磁場(chǎng)強(qiáng)度無(wú)影響
C、改變磁場(chǎng)強(qiáng)度
D、改變磁場(chǎng)方向
最新試題
相關(guān)顯示是由漏磁場(chǎng)吸附磁粉形成的磁痕顯示。
材料磁導(dǎo)率低（剩磁大）及直流磁化后，退磁磁場(chǎng)換向的次數(shù)（退磁頻率）應(yīng)較多，每次下降的磁場(chǎng)值應(yīng)較小，且每次停留的時(shí)間（周期）要略長(zhǎng)。
C型靈敏度試片與A型靈敏度試片使用方法相同，只是C型靈敏度試片能用于狹小部位。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁粉檢測(cè)的工件表面不得有油脂、鐵銹、氧化皮或其它粘附磁粉的物質(zhì)。
組合裝配件應(yīng)分解后再進(jìn)行磁粉檢測(cè)。
用連續(xù)法檢測(cè)時(shí)，檢測(cè)靈敏度不僅與被檢工件表面磁場(chǎng)強(qiáng)度有關(guān)，還受被檢工件材質(zhì)的影響。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長(zhǎng)度為兩條磁痕之和加間距。
打亂材料磁疇排布的兩種方法是：加熱到居里點(diǎn)溫度以上熱處理退磁法和反磁場(chǎng)退磁法。
熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，磁痕的評(píng)定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行，暗室或暗處可見(jiàn)光照度應(yīng)不小于20Lx。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：檢測(cè)后加熱至600℃以上進(jìn)行熱處理的工件，一般可不進(jìn)行退磁。