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答案：由于光刻膠無法承受高溫過程，擴(kuò)散的掩膜都是二氧化硅或氮化硅。當(dāng)原子擴(kuò)散進(jìn)入硅片，它們向各個(gè)方向運(yùn)動(dòng)：向硅的內(nèi)部，橫向和重...

答案：

在整個(gè)擴(kuò)散過程中，雜質(zhì)不斷進(jìn)入硅中，而表面雜質(zhì)濃度始終保持不變。