A.降低;增加
B.不變;降低
C.增加;降低
D.增加;不變
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A.組成
B.溫度
C.時(shí)間
D.A+B+C
A.螺位錯(cuò)只作滑移,刃位錯(cuò)既可滑移又可攀移
B.刃位錯(cuò)只作滑移,螺位錯(cuò)只作攀移
C.螺位錯(cuò)只作攀移,刃位錯(cuò)既可滑移又可滑移
D.螺位錯(cuò)只作滑移,刃位錯(cuò)只作攀移
A.位錯(cuò)不一定是直線
B.位錯(cuò)是已滑移區(qū)和未滑移區(qū)的邊界
C.位錯(cuò)可以中斷于晶體內(nèi)部
D.位錯(cuò)不能中斷于晶體內(nèi)部
A.間隙和空位質(zhì)點(diǎn)同時(shí)成對(duì)出現(xiàn)
B.正離子空位和負(fù)離子空位同時(shí)成對(duì)出現(xiàn)
C.正離子間隙和負(fù)離子間隙同時(shí)成對(duì)出現(xiàn)
D.正離子間隙和位錯(cuò)同時(shí)成對(duì)出現(xiàn)
A.正離子空位和負(fù)離子空位是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的縮小
B.正離子空位和負(fù)離子空位是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的增加
C.正離子空位和負(fù)離子間隙是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的增加
D.正離子間隙和負(fù)離子空位是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的增加
最新試題
以下屬于干法成型的方法有()
下列屬于高分子近程結(jié)構(gòu)的有()
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