A.調(diào)整射線能量
B.調(diào)整射線質(zhì)
C.調(diào)整射野大小
D.調(diào)整射野的平坦度和對稱性
E.調(diào)整半影大小
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A.1939
B.1945
C.1949
D.1955
E.1959
A.半衰期短,能量低
B.半衰期長,能量低
C.半衰期短,能量高
D.半衰期長,能量高
E.劑量分布差,操作復(fù)雜
A.10-60KV
B.60-160KV
C.180-400KV
D.400KV-1MV
E.2-50MV
A.射線質(zhì)
B.射線入射角度
C.照射劑量
D.洗片條件
E.照射劑量率
A.依賴于電離室的幾何形狀
B.依賴于電離室的制作材料
C.與電離室的比釋動能校準(zhǔn)因子NK有關(guān)
D.與照射量校準(zhǔn)因子NX有關(guān)
E.與吸收劑量校準(zhǔn)因子Cλ,CE有關(guān)
最新試題
電磁掃描調(diào)強不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時間短的優(yōu)點,而且可實現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強治療。
組織最大劑量比TMR 和源皮距的關(guān)系是()。
帶電粒子入射到物體時,沒有確定的射程。
α/β不僅代表了細(xì)胞存活曲線的曲度,也代表了細(xì)胞對亞致死損傷的修復(fù)能力。
治療證實是治療準(zhǔn)確執(zhí)行的重要保證,包括驗證記錄系統(tǒng),射野影像系統(tǒng),活體劑量測量系統(tǒng)。
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
電離室型劑量儀在每次測量前必需對氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變越小。
質(zhì)子束的優(yōu)勢在于布拉格峰形百分深度劑量分布。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。