二次波檢測(cè)是一種特殊的檢測(cè)工藝，以下關(guān)于二次波檢測(cè)的做敘述，哪一條是錯(cuò)誤的（）

射線照片上一個(gè)細(xì)節(jié)的影像是否能被眼睛識(shí)別出來(lái)，最主要的是決定于（）

底片清晰度與增感屏顆粒度的關(guān)系是（）

調(diào)節(jié)掃描速度時(shí)，應(yīng)使（）同時(shí)對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)的水平刻度值。

在筒身外壁做曲面周向探傷時(shí)（r、R為簡(jiǎn)體的內(nèi)、外徑），斜探頭（β為折射角）的臨界角應(yīng)滿足（）

光電效應(yīng)發(fā)生的機(jī)率隨什么變化（）

當(dāng)射線穿透任何一物體時(shí)，部分被物體吸收，部分則穿透該物體，還有一部分則被構(gòu)成該物的原子內(nèi)電子向各方面散射，此散射為（）

最容易發(fā)生康普頓效應(yīng)的射線能量為（）

底片清晰度與膠片顆粒度的關(guān)系是（）

對(duì)于鉬靶X射線管，在管電壓低于（）千伏時(shí)是不會(huì)產(chǎn)生特征X射線的。