A.主機(jī)
B.支架
C.法蘭把手
D.落下球體
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A.遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于
B.大致相當(dāng)
C.小于
D.不確定
A.落地支架法施工
B.采用掛籃施工
C.采用托架法施工
D.滿堂支架法
A.樁身完整
B.樁身有輕微缺陷,不會(huì)影響樁身結(jié)構(gòu)承載性能的正常發(fā)揮
C.樁身有明顯缺陷,對(duì)樁身結(jié)構(gòu)承載性能有影響
D.樁身存在嚴(yán)重缺陷
A.0.5Mpa
B.0.6Mpa
C.0.7Mpa
D.0.8Mpa
A.減少
B.增強(qiáng)
C.先減少后增強(qiáng)
D.先增強(qiáng)后減少
最新試題
產(chǎn)品焊接接頭最終質(zhì)量經(jīng)X射線檢驗(yàn)合格后不得再實(shí)施影響接頭性能的加工(如校形、修刮、重熔等),否則應(yīng)重新申請(qǐng)進(jìn)行X射線檢測(cè)。
為了提高射線照相對(duì)比度,可以采用高電壓、短時(shí)間、大管電流的方式曝光。
提出有效磁導(dǎo)率的是下列哪位科學(xué)家()
下面列出的確定透照布置應(yīng)考慮的基本內(nèi)容中,錯(cuò)誤的是()。
探傷人員在透視間內(nèi)發(fā)現(xiàn)輻射正在進(jìn)行應(yīng)立即()。
焊接工藝處理超標(biāo)缺陷必須閱片的主要目的是()。
底片或電子圖片、X射線照相檢驗(yàn)記錄、射線檢測(cè)報(bào)告副本、檢測(cè)報(bào)告等及臺(tái)帳由X光透視人員負(fù)責(zé)管理。
送檢產(chǎn)品工序狀態(tài)及表面質(zhì)量應(yīng)符合工藝規(guī)程或工藝處理意見(jiàn)的要求,經(jīng)表面檢驗(yàn)合格,申請(qǐng)單無(wú)需檢驗(yàn)蓋章確認(rèn)。
對(duì)含有內(nèi)穿過(guò)式線圈的薄壁管,影響其阻抗變化的因素有()
X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對(duì)需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注,確保定位準(zhǔn)確。