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問答題

【簡答題】簡述什么是光刻膠、光刻膠的用途、光刻對光刻膠的要求。

答案：光刻膠是一種有機(jī)化合物，它受紫外線曝光后在顯影液中的溶解度發(fā)生顯著變化，而未曝光的部分在顯影液中幾乎不溶解。
光...

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【簡答題】簡述光刻工藝的8個(gè)基本步驟。

答案：

①氣相成底膜；
②旋轉(zhuǎn)涂膠；
③軟烘；
④對準(zhǔn)和曝光；
⑤曝光后烘培（PEB）；
⑥顯影；
⑦堅(jiān)膜烘培；
⑧顯影檢查。

【簡答題】簡述部分離子注入工藝的作用。

答案： ①深埋層注入：高能（大于200KEV）離子注入，深埋層的作用：減小襯底橫向寄生電阻，控制CMOS的閂鎖效應(yīng)。
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