單項(xiàng)選擇題自比差動(dòng)式線圈中,兩個(gè)測(cè)量繞組的接法是()。

A.第一個(gè)繞組的“頭”接第二個(gè)繞組的“尾”
B.第二個(gè)繞組的“頭”接第一個(gè)繞組的“尾”
C.第一個(gè)繞組的“頭”接第二個(gè)繞組的“頭”
D.以上三種均可以


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1.單項(xiàng)選擇題有效磁導(dǎo)率μeff是指()。

A.試件的真實(shí)磁導(dǎo)率
B.真空磁導(dǎo)率
C.一個(gè)假設(shè)的隨試件各點(diǎn)性能變化的磁導(dǎo)率
D.標(biāo)準(zhǔn)試件的相對(duì)磁導(dǎo)率

2.單項(xiàng)選擇題描述檢測(cè)線圈能區(qū)分開(kāi)兩個(gè)最近缺陷距離的術(shù)語(yǔ)是()。

A.分辨力
B.準(zhǔn)確度
C.靈敏度
D.線性度

3.單項(xiàng)選擇題在檢驗(yàn)渦流探傷設(shè)備時(shí),所謂的漏檢率與錯(cuò)檢率,在通常情況下,是指檢驗(yàn)()。

A.自然傷
B.缺陷的絕對(duì)深度
C.標(biāo)準(zhǔn)傷
D.缺陷的絕對(duì)體積

4.單項(xiàng)選擇題渦流探傷中所說(shuō)的靈敏度應(yīng)是指()。

A.信號(hào)幅度與噪聲幅度之比
B.信號(hào)相位與噪聲相位之比
C.信號(hào)頻率與噪聲頻率之比
D.信號(hào)寬度與噪聲寬度之比

5.單項(xiàng)選擇題探頭與被檢管材之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)方式,可以是()。

A.點(diǎn)探頭旋轉(zhuǎn)、被檢管直線前進(jìn)
B.點(diǎn)探頭不動(dòng)、被檢管即旋轉(zhuǎn)有前進(jìn)
C.將點(diǎn)探頭沿管圓周排成一圈,被檢管直線前進(jìn)
D.以上各條都行

最新試題

補(bǔ)焊次數(shù)的界定由工藝、檢驗(yàn)負(fù)責(zé),對(duì)兩個(gè)補(bǔ)焊區(qū)交界部位補(bǔ)焊次數(shù)的界定,需要通過(guò)底片觀察提供幫助時(shí),X光室應(yīng)予以配合。

題型:判斷題

缺陷分類應(yīng)符合驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)的要求,標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的缺陷或不屬于X射線照相檢驗(yàn)范疇的缺陷,必要時(shí)可予以注明供有關(guān)人員參考,但不作為合格與否判定的依據(jù)。

題型:判斷題

下面列出的確定透照布置應(yīng)考慮的基本內(nèi)容中,錯(cuò)誤的是()。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

廢舊藥液應(yīng)采用專用容器收集,定期送指定的機(jī)構(gòu)處理。

題型:判斷題

X射線探傷室應(yīng)建立健全輻射安全管理制度及應(yīng)急預(yù)案。

題型:判斷題

對(duì)于厚度變化較大的變截面工件透照,只要底片黑度符合GJB1187A的要求時(shí),就可采用多膠片技術(shù)。

題型:判斷題

X光檢驗(yàn)組按復(fù)查清單組織復(fù)查,并出具X光底片復(fù)查報(bào)告,復(fù)查無(wú)遺留問(wèn)題方可進(jìn)行試壓。

題型:判斷題

為了提高射線照相對(duì)比度,可以采用高電壓、短時(shí)間、大管電流的方式曝光。

題型:判斷題

X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對(duì)需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注,確保定位準(zhǔn)確。

題型:判斷題

檢測(cè)申請(qǐng)時(shí)工序狀態(tài)應(yīng)清楚、工序質(zhì)量應(yīng)符合工序質(zhì)量要求,檢驗(yàn)蓋章確認(rèn),確保焊接、檢驗(yàn)、檢測(cè)等全過(guò)程具有可追溯性。

題型:判斷題