試說明半導(dǎo)體制造中擴(kuò)散工藝的主要目的。列出并解釋實際擴(kuò)散工藝的主要步驟，并說明個步驟的主要作用和工藝溫度。

試說明橫向擴(kuò)散以及橫向擴(kuò)散的主要影響。

什么是擴(kuò)散的相互作用？試舉一例說明其對半導(dǎo)體器件的制造有何影響及其產(chǎn)生的原因。

說明氧化氣氛對擴(kuò)散有何影響及原因？

OED/ORD

根據(jù)空位機(jī)制下的總擴(kuò)散系數(shù)公式，給出本征硅，低濃度摻雜，N型重?fù)诫s及P型重?fù)诫s下的擴(kuò)散系數(shù)公式。

若在直流電路中硅二極管導(dǎo)通，則其導(dǎo)通電壓均可認(rèn)為0.7V。

下列半導(dǎo)體材料熱敏特性突出的是（）

明兩步擴(kuò)散法的基本思想，及其每一步工藝的主要特點和目的。

二極管只能通過直流電，不能通過交流電。