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A、25
B、70
C、41
D、30

A、當缺陷尺寸小于射源尺寸時，才需要引入σ對底片對比度進行修正
B、σ值越小，幾何條件對底片對比度的影響越大
C、為提高σ值而改變透照布置，常用的方法是增大焦距
D、為提高底片對比度，應盡量采用σ>1的透照布置

A、射源尺寸
B、射源到缺陷的距離
C、缺陷到膠片的距離
D、缺陷相對于射源和膠片的位置和方向

A、影像放大率Mf數(shù)越小，因而缺陷越難發(fā)現(xiàn)
B、影像放大率Mf數(shù)越大，而缺陷越難觀察
C、形狀修正系數(shù)σ越大，因而缺陷檢出率越低
D、以上都不是

A、為了工作方便，底片與增感屏同裝在底片套內(nèi)時，每次可多裝一些，以后慢慢取用
B、與增感屏同裝在一起的底片有增感屏保護，在較高溫度下也沒有關(guān)系
C、有增感屏保護，可防止底片受潮
D、以上都不對

A、清潔
B、防潮
C、防止破損
D、以上都對

A、設備接地
B、按制造廠家的規(guī)定程序訓機
C、用探測儀探測輻射量并測定管制區(qū)
D、以上都對

A、先調(diào)整零點
B、經(jīng)常用已知黑度的底片校準
C、以上都對
D、以上都錯

A、波長變化不完全成比例
B、管電壓和X射線設備的電壓波形隨負載發(fā)生變化
C、電流在線性比率上才能改變
D、散射線不能按比率變化

A、放大
B、變形
C、模糊
D、以上都對