20世紀上半葉對半導體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是（）。

圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個NMOS管，M1的W/L＝12μm/6μm，M2的W/L＝4μm/2μm，其它物理參數(shù)及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線，請畫出Id2的大致變化，并說明Id1和Id2有什么不同，并解釋不同的主要原因。

把半導體級硅的多晶硅塊，轉(zhuǎn)換成一塊大的單晶硅的過程，稱作（）。生長后的單晶硅被稱為（）。

在晶體材料中，對于長程有序的原子模式最基本的實體就是（）。

集成電容主要有幾種結(jié)構(gòu)？

由于襯底材料的緣故會自動產(chǎn)生電容，這種電容稱為（）。

從設計的觀點出發(fā)，版圖設計規(guī)則應包括哪些部分？

版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？

比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路，試分析兩者存在差異的原因。

什么是電阻率？它的單位是什么（國際標準單位制）？