填空題光刻包括兩種基本的工藝類型:負(fù)性光刻和(),兩者的主要區(qū)別是所用光刻膠的種類不同,前者是(),后者是()。

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最新試題

MOS場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)在20世紀(jì)70年代得到了廣泛的接受,從那時(shí)起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類()和()。每種類型可由各自器件的多數(shù)載流子來(lái)區(qū)別。

題型:多項(xiàng)選擇題

MOS器件按比例縮小后對(duì)器件特性有什么影響?

題型:?jiǎn)柎痤}

MOS器件存在哪些二階效應(yīng)?

題型:?jiǎn)柎痤}

由硅片生產(chǎn)的半導(dǎo)體產(chǎn)品,又被稱為()。

題型:多項(xiàng)選擇題

把半導(dǎo)體級(jí)硅的多晶硅塊,轉(zhuǎn)換成一塊大的單晶硅的過(guò)程,稱作()。生長(zhǎng)后的單晶硅被稱為()。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

BiCMOS技術(shù)就是將()和()的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結(jié)構(gòu)的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結(jié)構(gòu)的高電流驅(qū)動(dòng)能力。

題型:多項(xiàng)選擇題

什么是無(wú)源電阻?什么是有源電阻?舉例說(shuō)明。

題型:?jiǎn)柎痤}

說(shuō)明MOS器件噪聲的來(lái)源、成因及減小方法。

題型:?jiǎn)柎痤}

硅半導(dǎo)體工藝中的絕緣材料主要來(lái)源于硅自身產(chǎn)生的()材料等。

題型:多項(xiàng)選擇題

為提高CMOS集成電路的抗自鎖能力,可在版圖設(shè)計(jì)上采取哪些措施?

題型:?jiǎn)柎痤}