多項(xiàng)選擇題MOS場效應(yīng)管(MOSFET)在20世紀(jì)70年代得到了廣泛的接受,從那時(shí)起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類()和()。每種類型可由各自器件的多數(shù)載流子來區(qū)別。
A.nMOS(n溝道)
B.pMOS(p溝道)
C.mMOS(m溝道)
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1.單項(xiàng)選擇題由于襯底材料的緣故會(huì)自動(dòng)產(chǎn)生電容,這種電容稱為()。
A.寄生電容
B.共生電容
C.儲(chǔ)存電容
2.多項(xiàng)選擇題集成電路電阻可以通過()產(chǎn)生。
A.金屬膜
B.摻雜的多晶硅
C.通過雜質(zhì)擴(kuò)散到襯底的特定區(qū)域中
3.多項(xiàng)選擇題半導(dǎo)體工藝技術(shù)中,器件互連材料通常包括()等。
A.金屬
B.合金
C.多晶硅
D.金屬硅化物
4.多項(xiàng)選擇題硅半導(dǎo)體工藝中的絕緣材料主要來源于硅自身產(chǎn)生的()材料等。
A.SiO2
B.SiON
C.Si3N4
5.多項(xiàng)選擇題材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類()。
A.導(dǎo)體
B.絕緣體
C.半導(dǎo)體
最新試題
版圖設(shè)計(jì)的基本前提是什么?
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說明MOS器件噪聲的來源、成因及減小方法。
題型:問答題
利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構(gòu)成一個(gè)MOS管,已知Cox=5×10-4pF/μm2,估算柵極電容。
題型:問答題
材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類()。
題型:多項(xiàng)選擇題
集成電容主要有幾種結(jié)構(gòu)?
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由于襯底材料的緣故會(huì)自動(dòng)產(chǎn)生電容,這種電容稱為()。
題型:單項(xiàng)選擇題
在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),畫出Vx從一個(gè)大的正值下降時(shí)Ix的草圖。
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根據(jù)圖,給出M2管的漏極電流表達(dá)式。
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版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么?
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什么是無源電阻?什么是有源電阻?舉例說明。
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