問(wèn)答題試給出CMOS IC芯片制造的4種基礎(chǔ)工藝,并說(shuō)明每種工藝的主要作用。
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
最新試題
試說(shuō)明硅工藝中常用摻雜雜質(zhì)B,P,As的擴(kuò)散特性。
題型:?jiǎn)柎痤}
在P 型半導(dǎo)體中,空穴濃度大于自由電子濃度。
題型:判斷題
若在直流電路中硅二極管導(dǎo)通,則其導(dǎo)通電壓均可認(rèn)為0.7V。
題型:判斷題
理想二極管模型在直流電路分析中誤差很大,因此不能使用。
題型:判斷題
自由電子是載流子,空穴不是。
題型:判斷題
二極管存在最高工作頻率是因?yàn)镻N 結(jié)有電容效應(yīng)。
題型:判斷題
因電場(chǎng)作用所產(chǎn)生的運(yùn)動(dòng)稱(chēng)為擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)。
題型:判斷題
說(shuō)明氧化氣氛對(duì)擴(kuò)散有何影響及原因?
題型:?jiǎn)柎痤}
半導(dǎo)體獲得廣泛應(yīng)用的原因是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
發(fā)射區(qū)推進(jìn)效應(yīng)
題型:名詞解釋