填空題特大規(guī)模集成電路（ULIC）對(duì)光刻的基本要求包括（）、（）、（）、（）、（）等五個(gè)方面。
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MOS器件存在哪些二階效應(yīng)？
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規(guī)定版圖幾何設(shè)計(jì)規(guī)則的意義是什么？
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版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？
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目前集成電路版圖設(shè)計(jì)的主流工具有哪些？
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什么是MOS器件的體效應(yīng)？
題型：?jiǎn)柎痤}
材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類（）。
題型：多項(xiàng)選擇題