A、砼初凝時間以貫入阻力為3.5MPa時的時間
B、砼初凝時間以貫入阻力為0時的時間
C、砼終凝時間以貫入儀全量程壓力不能貫入到規(guī)定深度的時間
D、砼終凝時間以貫入阻力為28MPa時的時間
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A、水泥性能
B、外加劑性能
C、粗骨料最大粒徑
D、環(huán)境溫度
A、從水泥與水拌合接觸的瞬間開始計時
B、從砂漿試驗筒裝料搗實的瞬間開始計時
C、從拌合物攪拌完成的瞬間開始計時
D、從首次貫入施加阻力的同時開始計時
A、可以是手動的,也可以是自動的
B、砂漿試樣筒是一個桶高150mm的木制圓筒
C、主要由加荷裝置、測針、砂漿試樣筒和標準篩組成
D、加荷裝置最大可以施加2000kN的試驗壓力
A、通過用貫入阻力儀對砼拌合物貫入阻力的測定來測試砼的凝結時間
B、通過用貫入阻力儀對從砼拌合物中篩出的砂漿貫入阻力的測定來測試砼的凝結時間
C、砼的凝結時間分為初凝時間和終凝時間
D、適用于所有稠度的砼拌合物凝結時間的測定
A、從水泥與水拌合接觸的瞬間開始計時
B、從拌合物搗實提筒的瞬間開始計時
C、從拌合物開始裝料的瞬間開始計時
D、從開啟振動臺的同時開始計時
最新試題
CZ法的主要流程工藝順序正確的是()
懸浮區(qū)熔的優(yōu)點不包括()
鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括()
那個不是影響直拉單晶硅的電阻率均勻性的因素()
用能量()禁帶寬度的光子照射p-n結會產生光生伏特效應。
與半導體相比較,絕緣體的價帶電子激發(fā)到導帶所需的能量()
雜質半導體中的載流子輸運過程的散射機構中,當溫度升高時,電離雜質散射的概率和晶格振動聲子的散射概率的變化分別是()
熱處理中氧沉淀的形態(tài)不包括()
最有效的復合中心能級位置在Ei附近;最有利陷阱作用的能級位置在()附近,常見的是少子陷阱。
可用作硅片的研磨材料是()