單項選擇題懸浮區(qū)熔的優(yōu)點不包括()

A.不需要坩堝
B.避免了容器污染
C.更易獲得高純度硅
D.成本低


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1.多項選擇題鑄造多晶硅中氫的主要作用包括()

A.鈍化晶界
B.鈍化錯位
C.鈍化電活性雜質(zhì)

2.單項選擇題鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括()

A.頭尾料和鍋底料中含有的氧
B.晶體生長過程中硅熔體與石英坩堝作用引入的氧
C.石墨加熱器與坩堝反應(yīng)引入的氧
D.外界空氣的進入

3.單項選擇題制約鑄造多晶硅材料少子壽命的主要因素不包括()

A.氧及其相關(guān)缺陷
B.參雜濃度
C.以間隙鐵為主的過渡族金屬雜質(zhì)
D.材料中的缺陷密度及其分布

4.單項選擇題改良西門子法的顯著特點不包括()

A.高能耗
B.成本低
C.產(chǎn)量高
D.質(zhì)量穩(wěn)定

最新試題

CZ法的主要流程工藝順序正確的是()

題型:單項選擇題

對于大注入下的直接復(fù)合,非平衡載流子的壽命不再是個常數(shù),它與()。

題型:單項選擇題

一塊半導(dǎo)體壽命τ=15µs,光照在材料中會產(chǎn)生非平衡載流子,光照突然停止30µs后,其中非平衡載流子將衰減到原來的()。

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制約鑄造多晶硅材料少子壽命的主要因素不包括()

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雜質(zhì)半導(dǎo)體中的載流子輸運過程的散射機構(gòu)中,當(dāng)溫度升高時,電離雜質(zhì)散射的概率和晶格振動聲子的散射概率的變化分別是()

題型:單項選擇題

下列哪個不是單晶常用的晶向()

題型:單項選擇題

鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括()

題型:單項選擇題

光子傳感器是利用某些半導(dǎo)體材料在入射光的照下,產(chǎn)生().使材料的電學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化。通過測量電學(xué)性質(zhì)的變化,可以知道紅外輻射的強弱。光子效應(yīng)所制成的紅外探測器。  

題型:單項選擇題

多晶硅的生產(chǎn)方法主要包含:()1)冶金法2)硅烷法3)重摻硅廢料提純法4)西門子改良法5)SiCl4法6)氣液沉淀法7)流化床法

題型:單項選擇題