你可能感興趣的試題

名詞解釋
Opc光學(xué)臨界校正
答案：補(bǔ)償當(dāng)圖形尺寸和曝光光線尺寸臨近時(shí)所產(chǎn)生的衍射效應(yīng)。
名詞解釋
PSM移相掩膜
答案：相移掩膜上的電介質(zhì)層在光刻版上開口部分以間隔的方式形成相移圖形，通過沒有相移涂敷開口部分的光線，會(huì)與通過有相移涂敷開口的...
名詞解釋
正光刻膠
答案：曝光區(qū)域變軟并最后被溶解。負(fù)膠則相反。
名詞解釋
光刻技術(shù)
答案：圖形化工藝中將設(shè)計(jì)好的圖形從光刻板或背縮光刻板轉(zhuǎn)印到晶圓表面的的光刻膠上使用的技術(shù)。
問答題
【簡(jiǎn)答題】什么是駐波效應(yīng)？如何減小駐波效應(yīng)
答案：駐波效應(yīng)：當(dāng)曝光的光纖從光刻膠與襯底的界面反射時(shí)，會(huì)與入射的曝光光線產(chǎn)生干涉，會(huì)使曝光過度和不足的區(qū)域形成條紋狀結(jié)構(gòu)。<...
問答題
【簡(jiǎn)答題】解釋硬烘烤的目的。光刻膠硬烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么問題？
答案：目的：除去光刻膠內(nèi)的殘余溶劑、增加光刻膠的強(qiáng)度，并通過進(jìn)一步的聚合作用改進(jìn)光刻膠的刻蝕與離子注入的抵抗力。增強(qiáng)了光刻膠的...
問答題
【簡(jiǎn)答題】解釋曝光后烘烤的目的。PEB（曝光后烘烤）烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么問題？
答案：
目的：降低駐波效應(yīng)
不足：無法消除駐波效應(yīng)，影響分辨率。
過度：造成光刻膠的聚合作用，影響顯影過程，導(dǎo)致圖形轉(zhuǎn)移失敗。
問答題
【簡(jiǎn)答題】軟烘烤的目的是什么？列出烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么后果？
答案：目的：將光刻膠從液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楣虘B(tài)，增強(qiáng)光刻膠在晶體表面的附著力。
使光刻膠含有5%-20%的殘余溶劑。
問答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述光刻工藝的8道工序
答案：八道工序?yàn)椋壕A清洗、預(yù)烘培和底漆涂敷、光刻膠自旋涂敷、軟烘烤、對(duì)準(zhǔn)和曝光、曝光后烘烤，以及顯影、硬烘烤和圖形檢測(cè)
問答題
【簡(jiǎn)答題】列出4種曝光技術(shù)，并說明那種分辨率最高，說明各種曝光技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)。
答案：1、接觸式曝光：分辨率較高，可在亞微米范圍內(nèi)。接觸時(shí)的微粒會(huì)在晶圓上產(chǎn)生缺陷，光刻版的壽命也會(huì)減短。
2、接近...

首頁(yè)

題庫(kù)

網(wǎng)課

在線?？?/h3>

桌面端

離軸照明

你可能感興趣的試題

Opc光學(xué)臨界校正

PSM移相掩膜

正光刻膠

光刻技術(shù)

【簡(jiǎn)答題】什么是駐波效應(yīng)？如何減小駐波效應(yīng)

【簡(jiǎn)答題】解釋硬烘烤的目的。光刻膠硬烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么問題？

【簡(jiǎn)答題】解釋曝光后烘烤的目的。PEB（曝光后烘烤）烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么問題？

【簡(jiǎn)答題】軟烘烤的目的是什么？列出烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么后果？

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述光刻工藝的8道工序

【簡(jiǎn)答題】列出4種曝光技術(shù)，并說明那種分辨率最高，說明各種曝光技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)。

離軸照明

你可能感興趣的試題

Opc光學(xué)臨界校正

PSM移相掩膜

正光刻膠

光刻技術(shù)

【簡(jiǎn)答題】什么是駐波效應(yīng)？如何減小駐波效應(yīng)

【簡(jiǎn)答題】解釋硬烘烤的目的。光刻膠硬烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么問題？

【簡(jiǎn)答題】解釋曝光后烘烤的目的。PEB（曝光后烘烤）烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么問題？

【簡(jiǎn)答題】軟烘烤的目的是什么？列出烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么后果？

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述光刻工藝的8道工序

【簡(jiǎn)答題】列出4種曝光技術(shù)，并說明那種分辨率最高，說明各種曝光技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)。

【簡(jiǎn)答題】什么是駐波效應(yīng)？如何減小駐波效應(yīng)

【簡(jiǎn)答題】解釋硬烘烤的目的。光刻膠硬烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么問題？

【簡(jiǎn)答題】解釋曝光后烘烤的目的。PEB（曝光后烘烤）烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么問題？

【簡(jiǎn)答題】軟烘烤的目的是什么？列出烘烤過度和不足會(huì)產(chǎn)生什么后果？

【簡(jiǎn)答題】列出4種曝光技術(shù)，并說明那種分辨率最高，說明各種曝光技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)。