判斷題異質(zhì)結是由至少兩種不同禁帶寬度的半導體相互接觸而形成的。
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2.判斷題AFM通常用來觀測樣品表面形貌。
4.判斷題通常利用TEM觀測的分辨率高于SEM。
5.單項選擇題光刻技術中的反刻工藝，通常應用于（）的情況。
A.對光刻精度較高
B.光刻圖案密度較高
C.光刻的材料易于腐蝕
D.光刻的材料難以腐蝕