判斷題數字集成電路由CMOS器件構成，模擬集成電路由雙極型器件構成。
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CMOS制作時，常常用作鈍化層的材料是（）。
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集成電路的制造工藝，需要采用隔離技術，常見的隔離方法有（）。
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在制作MOS管時，采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)（）。
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如果想在電路圖模式下編輯符號，可以選擇以下哪個命令？（）
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源漏注入之后，必須進行（）工藝，修復晶格損傷，激活雜質。
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氧化層中摻雜了硼雜質，一般稱為（）。
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摩爾定律中每一代集成電路上晶體管密度翻倍值是多少？（）
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為了實現(xiàn)全局平坦化，在集成電路中，經常采用（）工藝。
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反相器的版圖一般用到幾個pitch？（）
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