硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。

鳥(niǎo)嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。

進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。

IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎(chǔ)是（）。

碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管是未來(lái)晶體管發(fā)展趨勢(shì)之一。

注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無(wú)關(guān)？（）

常壓的硅外延方法有（）。

消除鳥(niǎo)嘴效應(yīng)的方法有（）。

新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）