問答題試說明氧化層在硅工藝中的四種主要用途及主要原因,并舉例說明各種用途的主要目的。
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說明氧化氣氛對擴散有何影響及原因?
題型:問答題
試說明硅工藝中常用摻雜雜質(zhì)B,P,As的擴散特性。
題型:問答題
下列半導(dǎo)體材料熱敏特性突出的是()
題型:單項選擇題
發(fā)射區(qū)推進效應(yīng)
題型:名詞解釋
什么是擴散的相互作用?試舉一例說明其對半導(dǎo)體器件的制造有何影響及其產(chǎn)生的原因。
題型:問答題
普通二極管是由PN 結(jié)引出電極封裝而成的。
題型:判斷題
試說明擴散工藝中常用的擴散摻雜方法,并說明當前實際工藝中使用的主要方法及理由。
題型:問答題
在PN 結(jié)形成過程中,空穴的擴散運動方向是從P 區(qū)到N 區(qū)。
題型:判斷題
本征半導(dǎo)體導(dǎo)電性能很差。
題型:判斷題
二極管交流等效電路參數(shù)與其靜態(tài)參數(shù)無關(guān)。
題型:判斷題