硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項？（）

注入損傷與注入離子的以下哪個參數無關？（）

刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結合來實現圖形的轉移？（）

CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

目前制備SOI材料的主流技術有幾種？（）

硅暴露在空氣中，在室溫下即可產生二氧化硅層，厚度約為（）。

消除鳥嘴效應的方法有（）。

摻雜后，退火的目的是（）。

芯片粘接的工藝過程包括（）。